Incisione no toxic, i fotopolimeri.

Tra i materiali nuovi per l’incisione spiccano i fotopolimeri, polimeri dotati di proprietà fotosensibili. Si tratta di  materiali di origine industriale, il cui adattamento per l’uso artistico è avvenuto nell'ultimo quarto di secolo, grazie alla ricerca, soprattutto americana. 

 

Negli anni ’90 alcuni artisti americani hanno sviluppato e diffuso le possibilità di realizzare matrici calcografiche con lastre e film di fotopolimero. Mark Zaffron, Keith Howard e Dan Welden, sono tra i protagonisti di queste nuove proposte. La grande novità è che questi materiali si usano con una semplice attrezzatura e si sviluppano in acqua senza ricorrere a nessun agente tossico o inquinante. Qualsiasi laboratorio di tecniche dell'incisione tradizionale può essere adattato all'uso di questi materiali, anche senza costose attrezzature supplementari, usando solo l'acqua e la luce del sole.

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L'incontro tra docenti e studenti, durante il workshop di Roma, è stata un'occasione per sperimentare questi materiali in due tipologie: lastre e film fotopolimero. Gli studenti hanno potuto così progettare lavori calcografici effettuando comparazioni ed ipotizzando necessità e priorità di utilizzo, fino a mettere a punto le tecnologie già esistenti nei laboratori, ma riuscendo anche a farne a meno, come con l'esperienza dell'uso delle solarplates direttamente alla luce del sole.

Un'esperienza formativa carica di nuovi impulsi anche per l'attività di ricerca, un progetto di collaborazione tra le Accademie di Belle Arti di Roma e di Palermo, promosso dai professori delle rispettive Scuole di Grafica, Tania Campisi e Francesca Genna, coadiuvate dai professori Ferdinando Fedele (cattedra di Grafica d’Arte, Tecniche dell’Incisione), Roberto Piloni (cattedra di Tecniche calcografiche sperimentali) e  Marilena Sutera (cattedra di serigrafia).